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  • 11
    2026-02
    电子枪的核心作用体现在离子产生与束流调控两大方面,在丹东离子源配件的运行过程中,电子枪通过阴极发射电子,经阳极加速和聚焦机构收敛后,形成密度均匀的电子束,与离子源内的中性粒子发生碰撞,促使中性粒子电离形成所需离子束,为后续加工工艺提供稳定离子源。
  • 11
    2026-02
    清理前需做好预处理,先将蒸发台坩埚组件从设备中平稳取出,放置在干燥、洁净的操作台上,用软毛刷轻轻清扫表面浮尘与松散杂质,避免杂质掉落设备内部造成二次污染。
  • 11
    2026-02
    典型的蒸发台行星锅主要由本体、行星轴、驱动连接结构及载片辅助部件构成。本体多为锥筒型结构,锥筒部设有若干均匀分布的圆形通孔,用于安装载片环放置工件,部分型号还配有透气孔、安装孔等功能孔位;行星轴贯穿本体中心,通过转动架与蒸发台支架连接,可实现自转与往复摆动,驱动连接结构通过倾斜连接杆与驱动轴相连,调节本体倾斜角度以提升镀膜包覆性。
  • 11
    2026-02
    目前市面上半导体行星锅的常见型号,可根据锅体上孔的特性进行明确分类,结合半导体生产工艺需求,主要分为三类,适配不同的加工场景。第一类是多孔均匀分布型行星锅,锅体锥筒部设有若干圆形通孔,且以中心为基准周向均匀排布,孔的数量多为4-8个,适配硅圆基片等半导体工件的批量蒸镀加工,能同时固定多个工件,提升生产效率,这类行星锅也是半导体规模化生产中的常用类型。
  • 07
    2026-02
    离子源弧光室的核心意义的是提供稳定的电离环境,为离子刻蚀提供充足离子。它通过密闭腔体构建真空、高温工况,配合电极组件触发气体电离,生成高密度、高活性的等离子体,为后续离子加速、轰击基片提供基础,没有离子源弧光室的稳定运作,离子刻蚀便无法实现连续、高效的精密加工。
  • 07
    2026-02
    腔体是弧光室的基础组成部分,也是整个结构的核心载体。腔体多采用耐高温、抗腐蚀的合金或陶瓷材质制成,外形常见圆柱形、方形等,主要作用是隔绝外部环境,构建真空电离空间,不让离子泄漏与外部杂质进入,同时承载内部各功能部件,是弧光室实现电离反应的基础支撑。
  • 07
    2026-02
    蒸发舟的核心工作原理围绕加热气化展开,作为蒸发台配件的关键组成,其通过自身通电加热或配合外部加热组件,将承载的蒸发材料加热至气化温度,使材料转化为蒸汽状态。
  • 07
    2026-02
    注入机离子源灯丝的核心技术原理围绕热电子发射展开。灯丝通电后,电能转化为热能,使灯丝温度升高至特定范围,此时灯丝表面的电子获得足够能量,克服金属逸出功脱离灯丝表面,形成热电子流,这是离子生成的基础步骤,也是注入机离子源灯丝发挥作用的核心机制。
  • 07
    2026-02
    离子源灯丝的核心应用是发射热电子,触发样品电离。在电子轰击工况下,离子源灯丝通电加热至特定温度后,持续发射热电子,电子束高速撞击进入离子源的样品分子,打破分子化学键,使样品分子电离成正离子,为后续质谱仪的质量分析、信号检测提供核心离子信号,是电子轰击电离的起始关键步骤。
  • 06
    2026-02
    钨钼组件可提升注入机离子源配件的耐高温能力。离子源工作时处于高温放电环境,钨钼材质熔点高、热稳定性佳,能有效抵御电离反应产生的高温侵蚀,避免组件变形、挥发,减少杂质析出污染离子束,维持注入机离子源配件的长期稳定运行,适配高功率离子注入场景。