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丹东正芯微电子科技有限公司成立于2006年,位于山川秀美的边境城市辽宁丹东。是一家历史悠久的生产、加工各种半导体工艺设备备品的高新民营企业,是半导体设备国产化的中坚力量。产品应用于美国、日本、台湾等地区的半导体设备国产化备件。公司有多位长期从事半导体行业的工作人员,聘请业内行家作为本公司顾问,并与多家科研单位建立长期合作关系。


新闻资讯
  • 在半导体制造等领域,注入机离子源配件的稳定性,直接关系到生产的效率与产品质量。高稳定性的注入机离子源配件,能大幅减少设备故障频次,保障生产持续进行。接下来,为大家推荐几款性能可靠的注入机离子源配件。
  • 不同类型的半导体设备配件,其更换周期受多种因素影响。像机械传动类配件,如电机皮带、齿轮等,因长期运转磨损,通常每运行 3000 至 5000 小时便需检查,若磨损程度超 20%,就应考虑更换。
  • 丹东半导体设备在薄膜沉积领域提供 PVD(物理气相沉积)和 CVD(化学气相沉积)两种技术方案,广泛应用于芯片制造、显示面板等领域。本文从技术特点、适用场景及工艺优势出发,解析丹东半导体设备的 PVD 与 CVD 技术如何满足不同薄膜制备需求。
  • 丹东离子源配件的核心参数包括材料、尺寸和电气性能。例如,阴极组件的材料选择(如耐高温合金)影响电子发射稳定性,精密加工的表面结构(如导流槽设计)确保束流均匀。
  • 蒸发台坩埚的结构设计是影响薄膜沉积均匀性的核心因素,直接关系半导体芯片、OLED 屏幕、光伏电池等精密器件的性能一致性。在真空蒸镀工艺中,坩埚的形状、导流设计及材料选择共同构建蒸发环境,本文从工程实践角度解析其对薄膜质量的影响。

离子源弧光室

蒸发台配件

蒸发台坩埚

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