离子源设备中弧光室的常见结构

弧光室是离子源设备的核心反应单元，其造型设计直接影响离子散射范围、电子运动轨迹及电离效率，适配不同功率、不同离子产出需求的离子源设备，广泛应用于半导体离子注入、等离子刻蚀等工艺。弧光室的造型需贴合真空放电、高温工作工况，兼顾密封性与离子引出便利性，常见造型各有适配场景，是离子源设备高效运转的重要基础。

圆柱形是弧光室最常用的造型，适配多数通用离子源设备。该造型受力均匀、密封性佳，能减少离子在腔体内的无序散射，同时便于加工制造、控制成本，可满足中低功率离子源的电离需求，广泛应用于常规晶圆掺杂、材料改性等场景，是性价比突出的弧光室造型。

方形弧光室适配高功率、多电极布局的离子源设备。其内部空间规整，可灵活安装多组电极与磁场组件，扩大电离反应区域，提升离子密度，适配高剂量离子注入等严苛工艺，尤其适合工业规模化生产场景，是兼顾功能性与拓展性的弧光室造型。

此外，球形弧光室是小众专用造型，适配精密离子源设备。球形结构能让电子与气体分子碰撞更均匀，减少局部电离不均的问题，提升离子纯度，适配高端半导体芯片制造等精密工艺。不同造型的弧光室，核心是贴合离子源设备的功率与工艺需求，实现高效电离。