离子源弧光室的散热结构

离子源弧光室工作时处于高温放电工况，电子与气体分子碰撞及电极损耗会持续产生大量热量，散热结构直接影响其运行稳定性、使用寿命及离子纯度，是离子源弧光室适配严苛工艺的核心设计之一。合理的散热结构可避免腔壁高温挥发、材质老化，减少杂质污染离子束，适配半导体离子注入、等离子刻蚀等多领域的长时间生产需求，不同工况下的离子源弧光室需搭配对应的散热方案。

水冷散热结构是离子源弧光室最常用的散热方式，适配中高功率工况。该结构在弧光室腔壁内置循环水道，通过冷却液持续带走热量，控温效果稳定，能将腔壁温度控制在合理范围，避免高温导致的结构形变，广泛应用于高剂量离子注入等发热量大的场景，兼顾散热效率与结构密封性。

风冷散热结构适配低功率离子源弧光室，主打轻量化与便捷性。通过内置散热片配合气流循环，快速散发腔体内多余热量，无需复杂的水路布局，安装维护简便，适合小型离子源设备及低发热工艺，能满足基础散热需求，兼顾成本与实用性。

此外，散热涂层辅助提升散热效果，多搭配水冷或风冷使用。在离子源弧光室腔壁涂覆高导热涂层，加快热量传导，减少局部积热，适配精密半导体制造等对温度控制要求较高的场景。各类散热结构按需搭配，可充分适配不同功率、不同工艺的离子源运行诉求。