半导体设备国产化专题-注入机离子源配件

离子注入决定芯片内部结构中器件的基础性能。离子注入属于物理过程，依靠调节剂量、射程、注入角度等三大重要参数，准确控制掺杂并实现数量与质量的可控，通过入射离子与靶材原子的电子阻碍和核阻碍等能量损耗机制达成靶材内的驻留。

离子注入设备包含5个子系统和6大核心零部件。离子注入机的5大子系统分别为：气体系统、电机系统、真空系统、控制系统和射线系统，其中射线系统为核心系统。离子注入机的6大核心零部件主要包括离子源、吸极、离子分析器、加速管、扫描系统、工艺腔等部件。

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