离子源及离子源弧光室的应用介绍

从20世纪60年代开始，人们将一定量的硼、磷或其他元素的离子注入到半导体材料中，形成掺杂。掺杂的浓度可通过积分离子流强度来控制。离子注入方法的重复性、可靠性比扩散法好。离子注入掺杂在半导体大规模集成电路的生产中已成为重要环节，用离子注入法取代旧的扩散等工艺在有些器件中已成为必然趋势。

离子注入在金属材料的改性中获得的结果十分引人注目。在常用金属的离子注入改性中，可以提高金属的硬度、抗腐蚀性能和抗耐久强度，降低金属的磨损率。某些绝缘材料如陶器、玻璃、材料经离子束照射以后，性质发生重要的变化，获得新的用途。

离子源配件：离子源弧光室、离子源灯丝、坩埚

离子源弧光室生产厂家-丹东正芯微电子科技有限公司可按用户要求加工各种半导体设备配件，还生产加工上千种电子设备零备件，如离子源弧光室、扩散炉、刻蚀机、CVD、背银机、减速机、机械泵等，图片未列产品或有特殊需要，详情电话咨询（0415-3196990 ）或邮箱联系（zsunsale@163.com）。